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        首頁(yè)-技術(shù)文章-橢偏儀在平板顯示行業(yè)中應(yīng)用

        橢偏儀在平板顯示行業(yè)中應(yīng)用

        更新時(shí)間:2025-02-08      點(diǎn)擊次數(shù):212


         

        01平板顯示行業(yè)測(cè)量介紹

        02平板顯示行業(yè)的量測(cè)意義

        03平板顯示行業(yè)的測(cè)量解決方案

         01 平板顯示行業(yè)測(cè)量介紹

        平板顯示器件于20世紀(jì)60年代出現(xiàn),主要包括液晶顯示器、發(fā)光二極管、等離子顯示板、電致發(fā)光顯示器等。目前液晶顯示LCD(Liquid Crystal Display)與有機(jī)電致發(fā)光顯示OLED(Organic Light-Emitting Diode)為平板顯示行業(yè)主要顯示技術(shù),占據(jù)行業(yè)絕大部分產(chǎn)值。

        檢測(cè)是面板生產(chǎn)過(guò)程的必要環(huán)節(jié)。面板顯示檢測(cè)的作用是在面板顯示器件的生產(chǎn)過(guò)程中進(jìn)行光學(xué)、信號(hào)、電氣性能等各種功能檢測(cè),發(fā)現(xiàn)制程中的缺陷,避免產(chǎn)品流片至后段造成更大損失。以市占率最大LCD為例,平板顯示器件主要分為彩膜Color Filter(CF)、陣列 (Array)、成盒(Cell)和模組(Module)四個(gè)制程,生產(chǎn)制程中均需要相應(yīng)的檢測(cè)。

         

          02平板顯示行業(yè)的量測(cè)意義

        CF和Array制程中,成膜質(zhì)量的好壞直接關(guān)系到產(chǎn)品性能和合格率。以CF制程為例,主要由黑色矩陣(Black Matrix)、彩色光阻(RGB)、平坦層(Overcoat)、支撐柱(Photo Spacer)、配向膜(Polyimide Film)組成,結(jié)構(gòu)示意圖如圖1所示。

        img1 

        1 CF側(cè)結(jié)構(gòu)示意圖

        CF制程膜層的光學(xué)性能和膜厚,與TFT-LCD的亮度(出光效率)、對(duì)比度等產(chǎn)品光學(xué)性能與直接相關(guān)。黑色矩陣BM(Black Matrix),其主要作用是隔絕RGB色阻防止混色,以及防止漏光,因此BM材料要求透過(guò)率低。制作BM的材料一般有Cr、CrOx及黑色樹脂等。RGB是顯示的三原色,RGB用于組成和顯示所有其他顏色,如圖2所示。當(dāng)白光照射時(shí),色阻會(huì)反射單色光(RGB),色阻材料會(huì)吸收其余波段的光,形成所需顏色。PI配向膜是TFT-LCD顯示屏的關(guān)鍵材料,該材料在成盒(Cell)工段被涂覆在基板與彩膜上,通過(guò)摩擦配向或光配向后,用以協(xié)助液晶分子按特定方向排列。這種結(jié)構(gòu)一般具有多軸光學(xué)性質(zhì),因此表征需要考慮到光學(xué)各向異性。對(duì)這些膜層的光學(xué)參數(shù)和厚度進(jìn)行快速、非破壞、準(zhǔn)確的量測(cè)能有效提高平板顯示器件的產(chǎn)品性能和合格率,具有重要的意義。

         

        img2 

        2 RGB三原色

         

        03平板顯示行業(yè)的測(cè)量解決方案

        實(shí)物展示

         

         

        橢圓偏振光譜法是一種物理測(cè)量方法,即使用偏儀(SE)來(lái)獲取薄膜的厚度和光學(xué)常數(shù)。具有無(wú)損傷樣件、靈敏度高和量測(cè)速度快等優(yōu)點(diǎn),可精確地表征介質(zhì)膜(如SiOxSiNx等)、優(yōu)異光電性能的氧化銦錫(ITO)、聚酰亞胺(PI)以及非晶硅(a-Si)等單層或多層薄膜的膜厚及材料的光學(xué)特性(如折射率、組分、各向異性和均勻性),是一種可以滿足以上量測(cè)需求的解決方案。

        img3 

         

        型號(hào)

        ME-Mapping

        光斑大小

        大光斑:2-4mm
        微光斑:200μm/100μm/50μm

        測(cè)量光譜

        16*16階穆勒矩陣

        波段

        380-1000nm(支持?jǐn)U展至210-2500nm

        單次測(cè)量時(shí)間

        1-8s

        入射角

        65°

        焦方式

        自動(dòng)找焦

        Mapping行程

        XY: 200*200mm

        XY: 300*300mm

        支持樣件尺寸

        2-8寸(可擴(kuò)展至12寸)

        產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)

          集成激光測(cè)距儀找焦、多尺寸自動(dòng)Mapping,最佳探測(cè)光強(qiáng)自動(dòng)變檔切換,圖像識(shí)別與定位,一鍵生成報(bào)告等功能,極大的提升設(shè)備智能便利化程度。

         

         

         

        img4 

        型號(hào)

        SE-VM-L

        光斑大小

        微光斑:200μm

        測(cè)量光譜

        16*16階穆勒矩陣

        波段

        380-1000nm(支持?jǐn)U展至210-2500nm

        單次測(cè)量時(shí)間

        1-8s

        入射角

        手動(dòng)變角45-90°,5度間隔°

        焦方式

        手動(dòng)找焦

        支持樣件尺寸

        2-8

        產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)

          高性價(jià)比光學(xué)偏測(cè)量解決方案,緊湊集成化,人機(jī)交互設(shè)計(jì),使用便捷

         

         

         

         

         

        樣件膜層結(jié)構(gòu)實(shí)測(cè)數(shù)據(jù)

         

         

         

         

        、黑色矩陣BM

        對(duì)玻璃基底單層BM膜層進(jìn)行建模測(cè)量,其結(jié)構(gòu)示意圖見(jiàn)圖3。

         

         

        3 BM膜層結(jié)構(gòu)

         

         

        黑色矩陣BM光譜擬合結(jié)果如圖4所示使用偏建模軟件仿真得到的透過(guò)率如圖5所示,滿足工藝預(yù)期。

        img5 

        4 Glass-BM偏光譜擬合圖

         

        img6 

        5 仿真BM透過(guò)率曲線

         

         

        阻層RGB

        對(duì)玻璃基底單層R進(jìn)行建模測(cè)量,其結(jié)構(gòu)示意圖見(jiàn)圖6

         

         

        6 R膜層結(jié)構(gòu)

         

        R色阻的擬合結(jié)果如圖7所示,測(cè)量偏參數(shù)與仿真參數(shù)匹配度高,GOF>0.95。其透過(guò)率擬合結(jié)果如圖8所示,實(shí)測(cè)與建模仿真得到的透過(guò)率一致。

        img7 

        7 Glass-R偏擬合光譜曲線

         

        img8 

        8 Glass-R透過(guò)率擬合曲線

         

        對(duì)樣品進(jìn)行多點(diǎn)測(cè)量,R色阻的厚度分布如圖9所示,與參考一致,滿足預(yù)期。

        img9 img10

        9 Glass-R薄膜wafermap

         

         

         

        、配向膜PI

        對(duì)Si或者玻璃基底的單層配向膜PI進(jìn)行建模測(cè)量,其結(jié)構(gòu)示意圖見(jiàn)圖10。

         

         

        10 PI膜層結(jié)構(gòu)

         

        配向膜PI偏光譜擬合結(jié)果如圖11所示,測(cè)量偏參數(shù)與仿真參數(shù)匹配度高,GOF>0.95,其nk各項(xiàng)異性表征如圖12所示。

        img11 

        11 配向膜偏光譜擬合曲線

         

        img12 

        12 PInk各項(xiàng)異性曲線

         

         

         

         


         



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